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在硅基片上制备石墨烯薄膜

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摘要 日本东北大学电子通讯研究所(Research Institute of Electrical Communication)的Maki Suemitsu教授领导的研究小组直接在硅基片表面成功地制备了纳米厚度石墨烯薄膜,据称这项成果是世界首例。
出处 《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2008年第11期93-93,共1页 Modern Chemical Industry

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