国际半导体工艺指南中用于硅基IC系统的新材料

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摘要此处所说新材料是指：新的原材料、新结构和加工方法。它们满足国际半导体工艺指南（ITRS）的要求，可增强Si基CMOS工艺。即通过使用新材料提高晶体管工作速度、降低功耗、改善散热状况，提高存储容量或增加RF／模拟功能而保持CMOS的大规模集成。应用新的原材料（并非仅限于Si基材料）旨在提高CMOSIC性能，

作者邓志杰（摘译）

出处《现代材料动态》 2008年第11期2-5,共4页 Information of Advanced Materials

关键词半导体工艺新材料指南国际 C系统 CMOS工艺硅基大规模集成

分类号 TB3 [一般工业技术—材料科学与工程] TN305 [电子电信—物理电子学]

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