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用纳米刻蚀技术在晶片上制成的超高效硅纳米线
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摘要
美国劳伦兹呗克莱国家实验室和加里福尼亚大学用无电刻蚀技术制成了超高效硅纳米线,这种由硅纳米线排列成的阵列是在置于水溶液中的硅片表面上形成的。
作者
杨英惠(摘译)
出处
《现代材料动态》
2008年第11期14-15,共2页
Information of Advanced Materials
关键词
纳米刻蚀技术
硅纳米线
超高效
晶片
国家实验室
硅片表面
水溶液
分类号
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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现代材料动态
2008年 第11期
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