美国SiOnyx获哈佛大学黑硅专利的独家使用权

美国哈佛大学技术开发局（OTD）和美国SiOnyx于近日宣布，哈佛大学将向SiOnyx提供名为“黑硅（Si）”的特殊硅材料的专利授权。SiOnyx将获得哈佛大学黑硅相关专利的独占使用权，争取实现商用化。