中束流平行扫描式离子注入机的现状被引量：2

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摘要全面介绍了当今集成电路制造工业中四种中束流平行扫描式离子注入机的发展情况，由于平行束扫描方式的实现，使得８英寸硅片的注入均匀性小于０．５％

作者何晓阳

机构地区中国科学院上海冶金研究所微电子学分部

出处《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1997年第1期61-64,F003,共5页 Semiconductor Technology

关键词离子注入机中束流平行扫描半导体器件

同被引文献4

1Michael Quirk,Julian Serda.Semiconductor Manufacturing Technology[M].北京:电子工业出版社,2003:458-460.
2应用材料.可移动元件的多向扫描和其离子束监测设备[P].中国:CN 1647235A.2005-07-27.
3应用材料公司.可移动元件的多向扫描和其离子束监测设备[P].中国:CN1647235A,2005.07.27.
4孙雪平,郭建辉,彭立波,等.平行透镜设计[C].长沙:第十三届全国三束学术年会,2005.

1吴明华.256MDRAM时代的离子注入机[J].微细加工技术,1995(1):71-74.
2程静怡.美国芯片制造工业的未来[J].军事电子,1992(8):6-8.
3光纤激光器特种光纤最新进展及建议[J].功能材料信息,2015,12(3):55-56.
4肖友文.70mm平行束卡夫曼源的设计[J].电子器件,1997,20(1):705-710. 被引量：2
5胡振东,孙雪平,彭立波.平行束磁透镜的研究[J].电子工业专用设备,2016,45(7):37-39.
6刘新朝,谢莉萍,陈树挺,张洲.构建嵌入式Linux系统[J].电子产品世界,2004,11(11A):116-117. 被引量：4
7罗晏,唐景庭,李雪春,卢志恒.LC-14型强流氧注入机注入均匀性的背散射分析报告[J].北京师范大学学报（自然科学版）,2002,38(2):204-207.
8曾庆高.离子注入均匀性的工艺控制[J].半导体光电,1999,20(4):262-264. 被引量：1
9莫大康.代工与IDM的辩证[J].电子产品世界,2005,12(11A):30-34. 被引量：1
10高峰,Zint C V,Poulet P.时间分辨光学层析的实验研究[J].光学学报,2001,21(9):1068-1072. 被引量：2

半导体技术

1997年第1期

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