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光化学反应要素—基材反射率
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摘要
电子器件的加工常常采用光刻腐蚀技术,本文从生产实践出发,着重讨论了光致抗蚀剂进行光化学反应过程中的要素,做定性分析。
作者
陆康宁
刘群建
出处
《彩色显像管》
1997年第3期4-5,24,共3页
关键词
荫罩
光化学反应
彩色显像管
基材反射率
分类号
TN141.32 [电子电信—物理电子学]
TN105 [电子电信—物理电子学]
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1997年 第3期
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