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光化学反应要素—基材反射率 被引量:1

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摘要 电子器件的加工常常采用光刻腐蚀技术,本文从生产实践出发,着重讨论了光致抗蚀剂进行光化学反应过程中的要素,做定性分析。
出处 《彩色显像管》 1997年第3期4-5,24,共3页
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