电子束光刻胶

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摘要 XR-1541电子束光刻胶专为实现下一代直写光刻工艺技术开发所设计。先进的旋涂式光刻胶产品系列是以电子束取代传统光源产生光刻图案，可提供图形小至6纳米的无掩膜光刻技术能力。

出处《集成电路应用》 2008年第10期45-45,共1页 Application of IC

关键词光刻胶电子束技术开发光刻工艺技术能力旋涂掩膜

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集成电路应用

2008年第10期

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