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动态与信息——试剂与应用技术交流会专题

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摘要 2008年10月13日~17日,以“试剂在应用领域的研究和发展”为主题的“第三届全国试剂与应用技术交流会”在武汉成功举办。此次会议邀请到有关部门领导、著名专家、学者、知名企业家,就试剂与应用技术热点问题作了专题报告。大会共有报告18个。专题报告反映了我国试剂行业的发展现状及试剂技术的研发前沿进展,总结了试剂与应用技术的进展,交流了最新成果。对试剂与应用技术的发展起到了促进作用。专题报告分学术研究进展和行业发展技术交流研讨两大部分。本期先介绍第一部分的内容。
出处 《化学试剂》 CAS CSCD 北大核心 2008年第12期948-951,共4页 Chemical Reagents
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