摘要
Edwards日前宣布，将与东京电子共同开发一款去除刻蚀工艺中氟碳气体的（perfluorocarbon，PFC）设备PA-01E，预计2009年中期研制完成。PA一01E系统配置有等离子体去除器件，该器件由日本AdtecPlasma Technology Co．公司开发，具有极高的转换效率及操作稳定性。另外，PA-01E系统降低了能耗及维修需求，具有比较低的CoO。此款系统在去除PFC气体的同时还可去除一氧化碳气体。
出处
《中国集成电路》
2008年第12期7-7,共1页
China lntegrated Circuit
