期刊文献+

布里奇曼法生长碲镉汞晶体的缺陷及其展望 被引量:3

Prospect of Hg 1-x Cd xTe Crystal Bridgman Growth Methd and Its Defect Control
下载PDF
导出
摘要 简单介绍了布里奇曼法生长碲镉汞晶体的主要缺陷以及缺陷的控制原理,回顾了国内进行碲镉汞晶体生长的布里奇曼法及加速坩埚旋转技术的布里奇曼法(ACRTB)研究的情况,并提出了进一步研究的问题。 The defects in MCT crystals grown by Bridgman method and defect control principle were discussed. Current state of MCT Bridgman and ACRT B growth in P.R. China was reviewed. Problems need to study in the furture during Bridgman growth were proposed.
作者 王跃
出处 《红外技术》 CSCD 北大核心 1998年第1期1-4,8,共5页 Infrared Technology
关键词 碲镉汞 布里奇曼法 晶体缺陷 红外光学材料 MCT Bridgman method Crystal growth Construction perfection
  • 相关文献

参考文献4

共引文献2

同被引文献25

  • 1袁诗鑫.Ⅱ-Ⅵ、Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体,高技术新材料要览[M].北京:中国科学技术出版社,1993.6623.
  • 2汤定元 王守武.窄禁带半导体红外探测器.半导体器件研究与发展(二)[M].北京:科学出版社,1991,1..
  • 3王跃.大直径碲镉汞晶体的生长工艺和晶体的缺陷研究.西北工业大学博士论文[M].西安,2000..
  • 4王跃,博士学位论文,2000年
  • 5曹玉璋,实验传热学,1998年
  • 6刘俊成,博士学位论文,1996年
  • 7闵乃本,晶体生长的物理基础,1982年
  • 8Wang Yue,SPIE.3553
  • 9Wang Yue,The Growth of Large Diameter HgCdTe Crystal
  • 10王跃,博士学位论文,2000年

引证文献3

二级引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部