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导纳谱研究锗硅单量子阱的退火效应
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摘要
利用导纳谱研究了锗硅单量子阱的热稳定性.导纳谱热发射模型的理论模拟和深能级缺陷研究表明:在900℃以下退火10分钟,晶格弛豫并不明显,但原子的互扩散引起量子阱中子能级严重降低.同时,我们计算出了原子的互扩散系数,以及单量子阱Si/Si0.75Ge0.25/Si中原子互扩散的热激活能1.08eV.
作者
柯炼
林峰
张胜坤
谌达宇
陆昉
王迅
机构地区
复旦大学应用表面物理国家重点实验室
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第1期66-71,共6页
半导体学报(英文版)
基金
国家自然科学基金
关键词
锗
硅
单量子阱
退火效应
分类号
TN304.11 [电子电信—物理电子学]
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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Journal of Semiconductors
1998年 第1期
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