日本开发出正电子束探伤三维成像技术

最近，日本产业技术综合研究所开发出了正电子束探伤三维成像技术。该技术是利用正电子束在短时间内对原子般大小的超微缺陷或空隙分布进行三维成像分析。有关专家称，此技术可广泛应用于需要控制超微缺陷的半导体器件等尖端材料开发领域。