提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术(Ⅰ)

导出

摘要介绍了目前用于提高亚半微米投影光刻机成像分辨力、增大焦深的新技术及主要研究方向．对大数值孔径和短波长技术、倾斜（离轴）照明技术、相移掩模技术、光瞳滤波技术、多焦面曝光技术以及表面成像技术的原理和现状作了较为详细的阐述，通过与现有技术及条件比较，提出了研制亚半微米光刻机应采用的技术途径．

作者罗先刚陈旭南姚汉民

机构地区中国科学院光电技术研究所

出处《物理》 CAS 1998年第4期219-222,共4页 Physics

关键词分辨力焦深大数值孔径短波长光刻亚半微米

1罗先刚,陈旭南,姚汉民.提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术(Ⅱ)[J].物理,1998,27(5):278-281.
2Brian Martin,Graham Arthur,万力.365～193nm曝光的亚半微米多晶硅栅控制[J].电子工业专用设备,2000,29(4):50-56.
3姚汉民,罗先刚.改善深亚微米光刻图形质量的途径[J].LSI制造与测试,1997,18(4):4-12. 被引量：1
4罗先刚,姚汉民,周冲喜,冯伯儒,陈旭南.可提高光刻分辨率的新技术[J].光子学报,2000,29(9):834-837. 被引量：8
5刘文辉.提高分辨率增大焦深的光学光刻新技术[J].电子工业专用设备,1995,24(1):24-29.
6陈宝钦.边缘相移掩模技术[J].光电工程,1997,24(S1):13-18. 被引量：5
7贾海强,张玉清,张慕义,李岚.移相掩模应用技术[J].半导体技术,1999,24(2):28-29.
8罗玉.CMOS光刻市场发展及应用[J].电脑与电信,2011(12):4-6.
9张津,姚汉民,陈旭南,唐小平.亚半微米光刻投影物镜温度补偿控制及算法研究[J].微细加工技术,1999(2):71-78. 被引量：2
10钱小工.亚半微米光刻技术的新动向[J].半导体情报,1993,30(1):49-57. 被引量：1

物理

1998年第4期

浏览历史

内容加载中请稍等...