期刊文献+

XeI~*准分子紫外光源的发光特性研究 被引量:1

The Iuminescent Properties of XeI~* Excimer UV Light Source
下载PDF
导出
摘要 采用石英做介质阻挡层,对高气压XeI*准分子紫外光源进行了实验研究,从放电功率、放电频率、总气压、气体配比等参数分析了光源的工作特性,其最佳工作参数为总气压320Torr、I2分压0.37%,电源频率58.7kHz。在此条件下当放电电压4.6kV、功率66W时,在距光源8.5cm处得到的紫外光辐射强度为31.2μW/cm2。 An experimental study on XeI^* excimer UV lamp stimulated by dielectric barrier discharge (DBD) was investigated. By using quartz as dielectric barrier layer, the working parameters of this lamp were analyzed from the applied power, discharge frequency, total pressure and the ratio of mixture gases. The optimum condition came with total pressure 320Torr, 0. 37% iodine ratio and 58. 7kHz' s frequency. Under the applied voltage 4. 6kV, power66W, an UV radiation intensity of 31.2μW/cm^2 was obtained at the distance of 8. 5cm from the quartz tube.
出处 《信息记录材料》 2009年第1期8-11,37,共5页 Information Recording Materials
基金 北京市教委科技面上项目(KM200710015002)支持
关键词 介质阻挡放电 准分子光源 XeI 转化效率 DBD excimer light source XeI conversion efficiency
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献19

  • 1El-Habachi A and Schoenbach K H 1998 Appl. Phys. Lett.72 22.
  • 2Kurunczi P, Shah H and Becker K 1999 J. Phys. B 32 L651.
  • 3McCown A W and Eden J G 1984 J. Chem. Phys. 81 2993.
  • 4Gellert B and Kogelschatz U 1991 Appl. Phys. B 52 14.
  • 5Zhang J Y and Boyd I W I998 J. Appl. Phys. 84 1174.
  • 6Boeuf J P 2003 J. Phys. D 36 R53.
  • 7A1-Shamma'a A I, Pandithas I and Lucas J 2001 J. Phys.D 34 2775.
  • 8]~ogelschatz U, Eliasson B and Egli W 1999 Pure Appl.Chem. 71 1819.
  • 9Zhang J Y and Boyd L W 1996 J. Appl. Phys. 80 663.
  • 10Kunhardt E E and Tzeng Y 1998 Phys. Rev. A 38 1410.

共引文献3

同被引文献2

引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部