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功耗电流小于200nA的Al栅CMOS I_(DD)失效分析 被引量:1

Al Gate CMOS DD Lose Efficiency Analysis of Static Power Current Below 200nA
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摘要 针对CMOS个别电路的静态功耗电流IDD功率老化失效问题,根据CMOS的设计结构和工艺特点,本文从静电和栓锁的角度提出了几种失效模型并分析了IDD几种失效机理。 The static power current I DD power ageing lose efficiency of CMOS individual circuit is directed based on the structure and technology of the CMOS,from the point of view of electrostatic and latch up,a few lose efficiency models are presented and I DD several lose efficiency mechanism are analysed.
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1998年第2期24-28,共5页 Semiconductor Technology
关键词 静态功耗电流 失效模型 CMOS IC 测试 Static power current Power ageing Lose efficiency model Microelectronics test pattern
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