期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
日制造出超高功率激光
下载PDF
职称材料
导出
摘要
日本理化研究所和高辉度光科学研究中心日前宣布,他们的研究人员借助原本用于生成X射线自由电子激光的小型试验加速器,成功制造出功率超过100兆瓦的超紫外线激光。
出处
《零八一科技》
2008年第3期15-15,共1页
关键词
高功率激光
制造
自由电子激光
科学研究
小型试验
研究人员
超紫外线
研究所
分类号
TN241 [电子电信—物理电子学]
G301 [文化科学]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
0
引证文献
0
二级引证文献
0
1
日本成功实现超高功率激光输出[J]
.物理通报,2008,29(8):33-33.
2
日本制造出超高功率激光[J]
.机电工程技术,2008,37(8):5-5.
3
日本制造出超高功率激光[J]
.大众科技,2008,10(8):8-8.
4
科技前沿[J]
.中国投资(中英文),2011(7):114-115.
5
英特尔与ASML加速开发下一代半导体关键制造技术[J]
.集成电路通讯,2012,30(3):6-6.
6
日研制出最短波长X射线激光[J]
.科技传播,2011,3(12):19-19.
7
本研制出世界最短波长X射线激光[J]
.中国西部科技,2011,10(16):89-89.
8
新的芯片制造理念[J]
.个人电脑,2002,8(12):146-146.
9
常军,邹美芳,王蕊瑞,冯树龙,M.M.Talha.
All-reflective optical system design for extreme ultraviolet lithography[J]
.Chinese Optics Letters,2010,8(11):1082-1084.
被引量:3
10
李晓翔.
编辑要有职业敏感[J]
.中国出版,1997(10):39-39.
被引量:1
零八一科技
2008年 第3期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部