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英特尔将投入70亿美元于美国打造制造设施 两年计划32nm制程技术

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摘要 英特尔总裁暨执行长欧德宁(Paul Otellini)2月10日于美国华盛顿特区宣布,该公司将于未来两年间投资70亿美元,在美国打造先进制造设施。该投资将投入布建英特尔领导业界的32nm制程技术,用来制造更快、更小、耗电更少的芯片。
出处 《电子与电脑》 2009年第3期15-15,共1页 Compotech
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