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英特尔将投入70亿美元于美国打造制造设施 两年计划32nm制程技术
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摘要
英特尔总裁暨执行长欧德宁(Paul Otellini)2月10日于美国华盛顿特区宣布,该公司将于未来两年间投资70亿美元,在美国打造先进制造设施。该投资将投入布建英特尔领导业界的32nm制程技术,用来制造更快、更小、耗电更少的芯片。
出处
《电子与电脑》
2009年第3期15-15,共1页
Compotech
关键词
先进制造
制程技术
英特尔
美国
设施
美元
华盛顿
投资
分类号
TP332 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
TH166 [机械工程—机械制造及自动化]
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电子与电脑
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