用宽束离子源清洗金属表面
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2笑生.硅的就地ECR等离子体表面清洗[J].等离子体应用技术快报,1995(4):5-6.
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3乐生.用氢多极微波等离子体清洗硅表面[J].等离子体应用技术快报,1995(7):16-17.
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4王惠三.利用紧凑的宽束离子植入机对硅进行的宽束硼离子值入[J].等离子体应用技术快报,2000(1):4-5.
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5尤大纬.宽束考夫曼离子源的原理及其使用[J].电工电能新技术,1993,12(1):55-61. 被引量：4
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6曹宝成,于新好,马瑾,马洪磊,刘忠立.用含表面活性剂和螯合剂的清洗液清洗硅片的研究[J].Journal of Semiconductors,2001,22(9):1226-1229. 被引量：15
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8孙义林,张玉春,曹德福,张福民,陈酉善.一台新型的宽束离子束混合装置[J].微细加工技术,1991(3):12-15. 被引量：1
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9饶雨生,唐敦乙,刘效增,沈伯礼.轴向场宽束离子源研究[J].西安交通大学学报,1990,24(1):53-60. 被引量：2
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10杜虎明,牛进毅,王莉,马斌.光伏太阳能硅片清洗工艺的探索[J].电子工业专用设备,2010(6):37-39. 被引量：3
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