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单晶炉热屏的发展现状 被引量:2

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摘要 在半导体硅单晶的制备中,大都是利用切克劳斯基(Czochralski)法来制备(简称CZ法),特别是目前太阳能级硅单品的生产中,几乎全部采用这种方法来制备硅单晶,以满足太阳能电池的需要。在目前全球常规能源短缺的情况下,太阳能光伏发电成为绿色再生能源的重要组成部分,得到各国政府的大力扶持和发展;与此同时,我国针对目前国内的高污染、高能耗工业现状,开展了大规模的节能降耗行动,硅材料领域也不例外。
作者 周鸿军
出处 《新材料产业》 2009年第3期27-29,共3页 Advanced Materials Industry
  • 相关文献

参考文献1

  • 1GB 19517-2004.国家电气设备安全技术规范[S],2004.

同被引文献7

引证文献2

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