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我国大型高精度衍射光栅刻划系统项目实施

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摘要 由国家光栅制造与应用工程技术研究中心申请的国家重大科研装备研制项目“大型高精度衍射光栅刻划系统”获得批准。
出处 《军民两用技术与产品》 2009年第3期30-30,共1页 Dual Use Technologies & Products

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