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脉冲激光辐照TiO2/SiO2薄膜的热效应
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摘要
用1.06μm单脉冲激光辐照TiO2/SiO2薄膜,利用得到的综合参数K来计算不同能量下单脉冲激光辐照薄膜产生的温度场和热应力场,并对计算结果进行分析,获得了温度场和热应力场在激光辐照过程中的变化过程及热应力在脉冲激光辐照薄膜过程中起主导作用。
作者
周维军
袁永华
桂元珍
刘海淘
出处
《中国工程物理研究院科技年报》
2008年第1期104-105,共2页
Annual Report of China Academy of Engineering Physics
关键词
TiO2/SiO2薄膜
脉冲激光辐照
热效应
热应力场
计算结果
综合参数
温度场
膜过程
分类号
TQ171.74 [化学工程—玻璃工业]
TN215 [电子电信—物理电子学]
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