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双谱成像及其未来发展
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摘要
回顾了双谱成像方法的基本原理,考察了它与其它高分辨率技术特别是与自适应光学相融合技术的未来发展问题。
作者
邓罗根
机构地区
北京理工大学应用物理系
出处
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
1998年第4期57-59,共3页
Chinese High Technology Letters
基金
国家自然科学基金高技术探索项目
关键词
双谱成像
斑纹干涉量度术
自适应光学
高分辨
分类号
O438 [机械工程—光学工程]
TH74 [机械工程—光学工程]
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