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乐思化学隆重推介OrmeSTARTM Ultra Nanofinish——有机金属基PWB表面处理制程

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摘要 在2008年9月,乐思化学收购了欧明创(Ormecon)公司,其纳米表面处理技术得到进一步发展。美国康涅狄格州西汉文(2009年2月17H)一确信电子(Cookson Eleclromcs)旗下乐思化学(Enthone Inc)隆重推介OtmeSTAR Ultra印制电路板表面处理制程。该有机金属基、注册专利的纳米表面处理技术与化学沉钳金(ENIG)及其他传统的金属表面处理制程相比,有效减少约90%的能量消耗,产生废水更少。与ENIG相比,OrmeSTAR Ultra缩短75%操作时间,减少30%成本,且无“黑焊盘”风险。该先进制程有效提高整个应用及操作过程的效率。
出处 《印制电路信息》 2009年第4期4-4,共1页 Printed Circuit Information
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