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一种新型古典抛光工艺的技术研究 被引量:1

New Method of the Classical Polishing Technologies
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摘要 对抛光模的制作、抛光粉的添加、加压的方式以及抛光后的清洗这一整套生产流程中所涉及的核心技术进行了部分改进和详细介绍,并最终给出了古典法抛光后的玻璃表面利用AFM检测后的表面形貌图,表面的粗糙度、划痕等微观缺陷明显改善。 This thesis mainly introduces the key technologies and transformed method of classical polishing technologies from manufacturing of polishing pad, supplying of polishing powder, forcing pressure and the finally rinsing. Atom force microscopy (AFM) shows the super smooth surface and the micro-defects such as micro-scratches can hardly be observed.
出处 《航空精密制造技术》 2007年第2期18-20,共3页 Aviation Precision Manufacturing Technology
关键词 抛光模 抛光粉 光胶垫板 超光滑 polishing pad polishing powder optical veneer ultra-smooth
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参考文献4

二级参考文献37

  • 1曹天宁,光学零件制造工艺学,1987年
  • 2李晋年,博士学位论文,1987年
  • 3舒泉声,低温技术与应用,1983年
  • 4H卡恰洛夫著;毛文杰,杨映芳译.平板玻璃研磨抛光工艺学[M].北京:中国工业出版社,1965.
  • 5Tesar A A,Fuchs B A.Remaval rates of fused silica with cenum oxide/pitch polishing[J].Proceedings of SPIE,1991,1531:80-90.
  • 6Cumbo M J,Fairhurst D,Jacobs S D,et al.Slurry particle size evolution during the polishing of optical glass[J].Applied Optics,1995,34(19):3743-3755.
  • 7Ming-Shih Tsai,Jias-Sheng Lin,et al.A novel two-step Al CMP process for overcoming patterngeometry effects[J].Proceedings of SPIE,1998,3508:216-223.
  • 8土桥正二著;黄占杰,松野静代译.玻璃的表面物理化学[M].北京:科学出版社,1986.
  • 9张昭,彭少方,等.无机精细化学工艺学[M].北京:化学工业出版社,2002.
  • 10Seo Y J,et al.Effects of slurry filter size on the chemical mechanical polishing (CMP) defect density[J].Materials letters,2004,58:2091-2095.

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