摘要
O484．5 2005064326 衬底温度对微晶硅薄膜沉积与结构特征的影响=Influence of substrate temperature on the deposition of μc-Si:H thin film fabricated with VHF-PECVD and its structural properties[刊,中]/杨恢东(暨南大学电子工程系．广东,广 州(510632))∥光电子·激光．-2005,16(6)．
出处
《中国光学》
CAS
2005年第6期52-53,共2页
Chinese Optics
