摘要
TN305．7 2005032365 硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用=Fabrication of silicon-based microstructures and their application in mi- crochipsE刊,中]／孙洋(清华大学深圳研究生院．广东,深 圳(518057)),钱可元…∥半导体光电．-2004,25(6)．- 477-479,483 基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构, 以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)
出处
《中国光学》
CAS
2005年第3期99-100,共2页
Chinese Optics
