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光谱学与光谱技术
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摘要
利用光学多道分析仪(OMA)拍摄了HT-6M托卡马克等离子体近紫外可见谱。系统分析了杂质行为,给出了主要杂质碳和氧的朝内的通量,在简化模型下计算了碳氧的化学溅射率,并由此得出碳氧杂质产生机制和可能的循环途径。结果表明,氧杂质在循环途径中起关键性的作用。
出处
《中国光学》
CAS
2004年第4期9-9,共1页
Chinese Optics
关键词
托卡马克等离子体
光学多道分析仪
氧杂质
紫外可见
系统分析
杂质行为
简化模型
产生机制
化学溅射
光谱技术
分类号
O433 [机械工程—光学工程]
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中国光学
2004年 第4期
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