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X射线、紫外线及其仪器
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摘要
针对场致发射阵列建立了有效的三维有限元模型来分析单个尖锥的发射电流。考虑到场致发射阵列的周期性和尖锥的轴对称性,仅对一个尖锥单元的1/4进行分析。对模型的表面施加电压边界条件,计算得到尖锥表面电场强度分布,电场强度在尖锥顶点最强,场发射电流在此处也最强。
出处
《中国光学》
CAS
2004年第4期101-102,共2页
Chinese Optics
关键词
场致发射阵列
发射电流
三维有限元模型
尖锥
电场强度分布
光散射
同步辐射
边界条件
轴对称性
表面施加
分类号
O434 [机械工程—光学工程]
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.发光学报,2008,29(3):567-572.
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场致发射阵列阴极电子枪的设计及模拟研究[J]
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中国光学
2004年 第4期
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