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光谱分析、光谱测量

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摘要 O433.1 2004010074 射频辉光放电硅烷等离子体的光发射谱研究=Optical emission spectroscopy invesugation on the RF-generated SiH<sub>4</sub>plasma[刊,中]/杨恢东(南开大学光电所,天津(300071)),吴春亚…∥光电子·激光.—2003,14(4)—375-379 通过对RF-PECVD技术沉积氢化非晶/微晶硅(a-Si:H/μc-Si:H)薄膜沉积过程中硅烷(SiH<sub>4</sub>)等离子体的光发射谱(OES)原位测量。
出处 《中国光学》 CAS 2004年第1期10-12,共3页 Chinese Optics
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