微细加工技术与设备

TN305.7 20010214190.13μm集成电路制造中的光刻技术研究现状及展望=Status and prospects of lithography technologiesfor 0.1 3 μm integrated circuit manufacturing[刊,中]/郭宝增(河北大学电子信息工程学院.河北,保定(071002))//固体电子学研究与进展.—2000,20(3).-281-290介绍了157 nm光学光刻技术、X射线光刻技术和角度限制散射电子束光刻技术的研究现状。