摘要
O484.1 2001010471直流辉光放电等离子体增强化学气相法制备金刚石及氮化碳薄膜=Synthesis of diamond and carbonnitride by DC.glow discharge plasma enhancedchemical vapor deposition[刊,中]/于威,王淑芳, 丁学成,韩理,刘志强,张连水,傅广生(河北大学物理系.河北,保定(071002))∥河北大学学报.自然科学版.-2000,20(1).-78-82采用直流辉光放电等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术方法,在Si(100)衬底上制备了金刚石薄膜。
出处
《中国光学》
EI
CAS
2001年第1期70-72,共3页
Chinese Optics
