氧化锌薄膜掺杂研究的新进展

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摘要综述了掺杂Al，Ga，In，Ge，Cu，Li和Pb等元素对ZnO薄膜的微结构及电、光、气敏等性质的影响。

作者赵谢群邱向东

机构地区北京有色金属研究总院

出处《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第S2期206-209,共4页 The Chinese Journal of Nonferrous Metals

关键词 ZNO薄膜掺杂性质

分类号 TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]

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中国有色金属学报

1998年第S2期

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