超微细加工及设备

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摘要 TN305 97010636 大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测-等离子发射光谱法=In situ monitoring etch processand end-point for LSI by the plasma emis-

出处《中国光学》 EI CAS 1997年第1期91-92,共2页 Chinese Optics

关键词等离子发射光谱法大规模集成电路在线监测中科院精密工程电子中心技术开发移相光刻超微细加工金刚石刀具

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中国光学

1997年第1期

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