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铒发光
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摘要
自1983年H.Ennen等报道掺铒硅(Er∶Si)的低温发光以来,人们对掺铒硅和硅化物的光致发光和电致发光性质产生了极大的兴趣,并进行了广泛的研究。人们希望能够研制成实用的光电子集成电路,并能使其得到重要的应用,例如基片与基片的内连接、并联计算机处理及硅基片上的光电子集成。
作者
邱巨峰
出处
《稀土信息》
1997年第7期9-10,共2页
Rare Earth Information
关键词
光致发光和电致发光
光致发光光谱
光电子集成电路
掺铒硅
富硅氧化硅
并联计算机
内连接
文献综述
活性层
电化学侵蚀
分类号
O472 [理学—半导体物理]
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