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电子工业用CVDD工艺和性质

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摘要电子工业用ＣＶＤＤ工艺和性质ＣＶＤＤ（化学气相淀积金刚石）是在氢气中渗入甲烷稀薄气体混合物制得的。温度大于７００℃，压力要低于１０１３３ｋＰａ。制得的金刚石为多晶微结构和柱状晶组织．这种工艺是一个在母体芯子上的ＣＶＤ过程。所得产品直径大于１５０ｍｍ。...

作者紫英

出处《航空精密制造技术》 1995年第6期14-14,共1页 Aviation Precision Manufacturing Technology

关键词电子工业天然金刚石氢原子化学气相淀积激光切割热膨胀系数金属化处理柱状晶组织稀薄气体激光钻孔

分类号 F426.6 [经济管理—产业经济]

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航空精密制造技术

1995年第6期

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