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对生产大面积建筑镀膜玻璃的真空磁控溅射阴极靶结构的研究
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摘要
目前,生产大面积建筑镀膜玻璃广泛采用真空磁控溅射镀膜工艺,而这种工艺的核心和关键是磁控溅射阴极靶。因此对靶结构的研究也就成为真空磁控溅射镀膜工艺中的重要课题之一。本文对目前国内外使用的三种阴极靶结构,即同轴圆柱靶、矩形平面靶、旋转式新型柱状靶进行了分析,阐述了三种结构的优缺点,以及靶材刻蚀、膜厚均匀性和靶材利用率等方面的问题,总结出适合于生产大面积建筑镀膜玻璃的阴极靶结构。
作者
张红
机构地区
中国耀华玻璃集团公司耀华镀膜玻璃厂
出处
《玻璃》
1995年第5期36-39,共4页
Glass
关键词
建筑镀膜玻璃
真空磁控溅射
阴极靶
分类号
TQ171.6 [化学工程—玻璃工业]
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