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光学薄膜参数、测试及设备
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摘要
O484.5 95021095Y—Ba—Cu—O超导薄膜在其临界温度附近的克尔效应观测[会,中]/钱小陵(首都师范大学物理系),王国文(北京大学物理系)∥第6届全国基础光学学术报告会.—大连,94.6利用偏振面微小旋转的测量技术,对氧化锆和钛酸锶基底上的Y—Ba—Cu—O薄膜进行反复测量,垂直薄膜的磁场加高到大约0.5T(5000高斯)
出处
《中国光学》
EI
CAS
1995年第2期57-58,共2页
Chinese Optics
关键词
临界温度
克尔效应
超导薄膜
分子二阶非线性光学极化率
基础光学
首都师范大学
测量技术
学术报告会
物理系
光学薄膜
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
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中国光学
1995年 第2期
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