摘要
TN252 95010416m线法研究掺杂LiNbO<sub>3</sub>晶体波导基片的光损伤=Study of photo damage of waveguide substrateof doped LiNbO<sub>3</sub> by m-line method[刊,中]/许世文,李铭华,高元凯,徐玉恒,袁茵（哈尔滨工业大学空间工程系.黑龙江,哈尔滨（150006））万立德（哈尔滨工业大学应用物理系.黑龙江,哈尔滨（150006））//光子学报.—1994,23（2）.—179—183采用m线法研究了掺杂LiNbO<sub>3</sub>晶体波导基片的光损伤,发现抗光损伤能力依次为Mg:LiNbO<sub>3</sub>、LiNbO<sub>3</sub>、Fe:LiNbO<sub>3</sub>（氧化）、Fe:LiNbO<sub>3</sub>（还原）。
出处
《中国光学》
EI
CAS
1995年第1期60-60,共1页
Chinese Optics
