摘要
英国国家物理实验室(NPL)E.W.Palmer1988年来华访问,其中曾就大面积光栅刻线机的设计和制造问题与航空部303所交流。1981年10月《PrecissionEngineer》(Vol,3.№.4)C.Evans 发表了关于这种刻线机的设计和制造方面的总结性文章。本文根据 C.E vans 的文章,结合 E.W.Palmer 的讲演,综述了刻线机的光学设计原理、总结电子-光学控制和测量方面的经验以及有关的机械设计等问题。
出处
《航空精密制造技术》
1989年第2期47-51,共5页
Aviation Precision Manufacturing Technology
