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黑色金属基体上化学镀镍镀层孔隙率的电化学测定

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摘要 一种无损电化学测量法已用来测定钢和灰铸铁上的化学镀镍镀层的孔隙率。这种测量方法是建立在测定由化学镀镍层与因疏孔而暴露在腐蚀电解液中的黑色金属基体构成的双层金属的混合电位之上的,测出的孔隙率是以镀层表面上疏孔面积所占的百分率表示的,这种测定的精确度可与一般的孔隙率试剂试验和监雾试验相媲美。电化学技术比孔隙率试剂试验更为灵敏,并且可以在比后者短得多的时间内不破坏试样外观下提供与盐雾试验相比拟的孔隙率。
作者 Das,L 张孝仁
出处 《电刷镀技术》 1998年第2期36-42,共7页
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