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单极CMOS,速度更快、更易制造

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摘要 耶鲁大学的T.P.Ma教授提出了一种全n沟道的CMOS,它比现在的以电子和空穴为载流子的CMOS速度更快、更容易制造。T.P.Ma称它为单极CMOS,并在2008年10月由Semathech组织的先进栅叠层技术国际会议上做了首次介绍。
作者 David Lammers
机构地区 News Editor
出处 《集成电路应用》 2009年第1期33-33,共1页 Application of IC
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