摘要
我们用Ｈｅｎｋｅ型软Ｘ射线源完成了栅网的接触式成像，采用Ｔａｌｙｓｔｅｐ台阶仪测量了不同曝光时间ＰＭＭＡ光刻胶的溶解速率。由测量曲线可知光刻胶在显影开始时速率较快，随着时间的增加，溶解速率逐渐趋缓，最后达到所有的曝光时间下的样品的溶解速率都相同。这与理论分析十分吻合。
The contact images of the meshes were obtained using a Henke type X ray source whose working length is 4.
出处
《微细加工技术》
1998年第2期41-44,共4页
Microfabrication Technology
基金
国家自然科学基金
应用光学国家重点实验室基金
关键词
接触式
显微术
光刻胶
溶解速率
X射线
Soft X ray contact microscopy
Photoresist
development speed
