FSI国际宣布将ViPR^(TM)全湿法去除技术扩展到NAND存储器制造

全球领先的半导体制造晶圆加丁、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司3月24日宣布：一家主要的存储器制造商将FSI带有独特ViPR^TM全湿法无灰化清洗技术的ZETA。清洗系统扩展到NAND闪存生产中。许多器件制造商对采用FSI的ZETAViPR技术在自对准多晶硅化物形成过程所带来的益处非常了解。该IC制造商就这一机台在先进的NAND制造中可免除灰化引发损害的全湿法光刻胶去除能力进行了评估。