期刊文献+

快速退火炉热源及其温度均匀性设计 被引量:1

The Design of Thermal Resource and Temperature Uniformity in Rapid Annealing Furnace
下载PDF
导出
摘要 根据快速退火炉加热系统的组成,利用热量传递的基本理论定性地分析了满足热处理工艺指标时加热系统所需的热功率以及影响快速退火系统温度均匀性的因素。在此基础上提出了热源分区的设计思想。 According to the configuration of Rapid Thermal Processing (RTP), the paper analyzed the heat power that heating system needed during heat treatment processing technology and factors that influenced the temperature uniformity of rapid annealing system. A new ideal of thermal resource to be divided into ten banks was proposed based on that theory.
出处 《工业加热》 CAS 2009年第2期44-46,共3页 Industrial Heating
关键词 快速退火炉 晶片 功率密度 分区 rapid thermal processing wafer power density bank
  • 相关文献

参考文献4

  • 1REID K,SITARAM A.Rapid Thermal Processing for ULSI Applications:An Overview[J].Solid State Technology,1996,(2):64.
  • 2STEPHEN A,CAMPBE U.微电子制造科学原理与工程技术基础[M].曾莹,严利人,译.北京:电子工业出版社,2004.
  • 3QUIRK MICHAEL,SERDA JULIAN.半导体制造技术[M].韩郑生,译.北京:电子工业出版社,2004.
  • 4YOUNG N LEE,JIN SU-JANG.Temperature Control of a Rapid Thermal Processor Based on Receding Horizon Control[J].Pusan:IEEE,2001:1204-1207.

同被引文献1

引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部