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抗原双重暴露在免疫组化染色中的应用 被引量:4

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摘要 在免疫组化染色中抗原暴露是通过抗原修复达到的,是染色成败的关键因素之一。为使石蜡切片中待标记的抗原获得充分的暴露,我们使用的抗原双重暴露方法取得了满意的实验结果。
出处 《诊断病理学杂志》 CSCD 2009年第2期145-145,共1页 Chinese Journal of Diagnostic Pathology
  • 相关文献

参考文献1

  • 1Shi SR, Gu J, Taylor CR. Antigen retrieval techniques: immunclicsto-chemistry and molecular morphology [ M ]. Natick, Massachusetts: Eaton Publishing, 2000.17 - 333.

同被引文献35

引证文献4

二级引证文献24

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