CN200710053047．4金刚石膜的抛光方法

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摘要本发明涉及一种金刚石膜的抛光方法。金刚石膜的抛光方法，其特征在于它包括如下步骤：1）首先在金刚石膜表面镀涂能够与碳形成强碳化物的纯金属或合金；2）在真空炉中加热，真空度10^-1-10^-4Pa，加热温度大于800℃，时间5～30分钟，在表面形成碳化物层，厚度为0．05～0．5μm；3）在机械抛光机上，采用硬度比金刚石低的SiC或Al2O3作为磨料，对步骤2）所得的金刚石膜进行抛光，时间5～30分钟；

机构地区武汉工程大学

出处《磨料磨具通讯》 2009年第4期36-36,共1页

关键词金刚石膜抛光机加热温度 AL2O3 碳化物纯金属膜表面真空炉

分类号 TG142.33 [金属学及工艺—金属材料] TN304.18 [电子电信—物理电子学]

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