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CN200710053047.4金刚石膜的抛光方法
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摘要
本发明涉及一种金刚石膜的抛光方法。金刚石膜的抛光方法,其特征在于它包括如下步骤:1)首先在金刚石膜表面镀涂能够与碳形成强碳化物的纯金属或合金;2)在真空炉中加热,真空度10^-1-10^-4Pa,加热温度大于800℃,时间5~30分钟,在表面形成碳化物层,厚度为0.05~0.5μm;3)在机械抛光机上,采用硬度比金刚石低的SiC或Al2O3作为磨料,对步骤2)所得的金刚石膜进行抛光,时间5~30分钟;
机构地区
武汉工程大学
出处
《磨料磨具通讯》
2009年第4期36-36,共1页
关键词
金刚石膜
抛光机
加热温度
AL2O3
碳化物
纯金属
膜表面
真空炉
分类号
TG142.33 [金属学及工艺—金属材料]
TN304.18 [电子电信—物理电子学]
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磨料磨具通讯
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