期刊文献+

利用掠入射X射线技术表征高分子薄膜 被引量:5

下载PDF
导出
摘要 掠入射X射线技术是一种表征高分子薄膜的结晶性、厚度、界面粗糙度等物理量的新方法,本文简单介绍了这种技术中X射线反射率法和掠入射X射线衍射法的基本原理、测试和分析方法以及这些方法在高分子薄膜研究中的应用。
出处 《大学化学》 CAS 2009年第2期1-6,9,共7页 University Chemistry
  • 相关文献

参考文献9

二级参考文献24

  • 1Mingotaud C., Lafuente C., Amiell J. et al.. Langmuir[J], 1999, 15: 289-292
  • 2Schutte M., Stolle C., Kurth D. G.. Supramol. Chem.[J], 2003, 15(7-8): 549-555
  • 3Khomutov G. B., Beresneva I. V., Koksharov Y. A. et al.. Colloid Surface A[J], 2002, 198: 509-517
  • 4Schmitt J., Decher G., Dressick W. J. et al.. Adv. Mater.[J], 1997, 9(1): 61-65
  • 5Decher G., Schmitt J.. Progr. Colloid Polym. Sci.[J], 1992, 89: 160-164
  • 6Hao E. C., Lian T. Q.. Chem. Mater.[J], 2000, 12: 3 392-3 396
  • 7Hong H., Tarabia H., Davidov D.. J. Appl. Phys.[J], 1996, 79: 3 082-3 088
  • 8Evmenenko G., Van der Boom M. E., Kmetko J. et al.. J. Chem. Phys.[J], 2001, 115: 6 722-6 727
  • 9Hohler G., Kuhn J.. X-ray Scattering from Soft-Matter Thin Films, Springer Tracts in Modern Physics, Vol. 148[M], New York: Springer, 1999: 33-45
  • 10Chason E., Mayer T. M.. Critical Rev. Solid State Mater. Sci.[J], 1997, 22: 1-67

共引文献7

同被引文献21

  • 1邵淑英,范正修,范瑞瑛,邵建达.薄膜应力研究[J].激光与光电子学进展,2005,42(1):22-27. 被引量:41
  • 2高凤菊,郑瑞廷,程国安.自支撑薄膜制备的研究进展[J].材料导报,2007,21(6):1-3. 被引量:9
  • 3Zen A,Pflaum J,Hirschman S,et al.Adv Func Mater,2004,14(8):757-764.
  • 4Lu H H,Liu C Y,Chang C H,et al.Adv Mater,2007,19(18):2574-2579.
  • 5Chen L,Huang Z,Li G,et al.Adv Mater,2009,21(14-15):1434-1449.
  • 6Kline R J,McGehee M D,Kadnikova E N,et al.Macromolecules,2005,35(8):3312-3319.
  • 7Grell M,Bradley D D C,Ungar G,et al.Macromolecules,1999,32(18):5810-5817.
  • 8CHEN S,SU A,CHEN S.Maeromolecules,2005,35(2):379-385.
  • 9Chen S H,Chou H L,Su A C,et al.Maeromolecules,2004,37(18):6833-6838.
  • 10朱冠超,方明,易葵,朱美萍,邵淑英,范正修.双光束在线实时测量光学薄膜应力的装置[J].中国激光,2009,36(8):2150-2153. 被引量:2

引证文献5

二级引证文献4

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部