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Ag/Si纳米颗粒多层膜的合成

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摘要 使用多靶离子束溅射沉积方法制备出Ag/Si多层膜 .利用原位低角X射线衍射技术和截面高分辨透射电子显微镜观察 5 0~ 30 0℃退火过程中Ag/Si多层膜各亚层间发生的扩散现象 ,并由此分析研究Ag/Si多层膜微观结构变化 ,即Ag/Si纳米颗粒多层膜的形成过程 .计算出Si在Ag亚层中的扩散激活能和频率因子分别为 0 .2 4eV和 2 .0 2× 1 0 -2 0 m2 /s,纳米Ag颗粒的尺寸约为 5nm .
出处 《中国科学(A辑)》 CSCD 1998年第5期438-442,共5页 Science in China(Series A)
基金 国家"八六三"基金资助项目
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献2

  • 1Bai H Y,J Mater Res,1992年,7卷,6期,1423页
  • 2Meng W J,Phys Rev B,1990年,42卷,4881页

共引文献1

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