摘要
使用多靶离子束溅射沉积方法制备出Ag/Si多层膜 .利用原位低角X射线衍射技术和截面高分辨透射电子显微镜观察 5 0~ 30 0℃退火过程中Ag/Si多层膜各亚层间发生的扩散现象 ,并由此分析研究Ag/Si多层膜微观结构变化 ,即Ag/Si纳米颗粒多层膜的形成过程 .计算出Si在Ag亚层中的扩散激活能和频率因子分别为 0 .2 4eV和 2 .0 2× 1 0 -2 0 m2 /s,纳米Ag颗粒的尺寸约为 5nm .
出处
《中国科学(A辑)》
CSCD
1998年第5期438-442,共5页
Science in China(Series A)
基金
国家"八六三"基金资助项目