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不同温度硅纳米薄膜在表面重构下杨氏模量的分子动力学研究

Molecular Dynamics Study on Young's Modulus of Silicon Nanofilms Under Surface Reconstruction at Finite Temperature
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摘要 采用分子动力学方法计算了100K到800K之间(001)面硅纳米薄膜(1nm,2nm厚)[110]与[1—10]两个方向上的杨氏模量。2×1表面重构形成了dimmer键,使[110]方向杨氏模量大于[1—10]方向杨氏模量。纳米薄膜的杨氏模量随着温度升高而下降。热膨胀导致了温度效应。当尺度到达纳米尺度,表面重构和温度效应更加明显。 In this paper, we investigate Si (001) nanofilms (1nm and 2nm thickness) Young's modulus under (2×1) surface reconstruction along [110] and [1-10] directions at different temperature from 100K to 800K by Molecular dynamics (MD) is investigated. The (2xl) surface reconstruction leads to formation of dimmers, making Young's moduli along the [110] direction stiffer than the [1-10] direc- tion. Young's moduli decrease as temperature increases. Thermal expansion cause temperature effect . Surface reconstruction and temperature effect are more significant as size is scaled down to nanoscale .
出处 《纳米科技》 2009年第2期8-12,共5页
基金 基金项目:国家重点基础研究计划(973)资助课题(2006CB300404)
关键词 分子动力学 杨氏模量 表面重构 温度效应 molecular dynamics young's moduli surface reconstruction temperature effect
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