摘要
全球领先的半导体制造晶圆加工、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司宣布：一家主要的存储器制造商将FSI带有独特ViPR^TM全湿法无灰化清洗技术的ZETA清洗系统扩展到NAND闪存生产中。许多器件制造商对采用FSI的ZETA ViPR技术在自对准多晶硅化物形成过程所带来的益处非常了解。该IC制造商就这一机台在先进的NAND制造中可免除灰化引发损害的全湿法光刻胶去除能力进行了评估。客户对制造过程中无灰化光刻胶剥离法、
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第6期621-621,共1页
Semiconductor Technology
